| 名称 | 超大规模集成电路工艺学 |
| 索引号 | 033895 |
| 分类号 | (| 08 环境公报) |
| 作者 | 史西蒙 S.M.、史常忻、 |
| 出版社 | 上海 : 上海交通大学出版社, 1987.10 |
| ISBN | 7-313-00046-4 |
| 页数 | 456页 ; 26cm$ |
| 价格 | CNY4.80 |
| 标签 | |
| 简介 | |
| 注解 | 包括晶体生长、电子制备, 外延、介质和多晶硅淀积、氧化、扩散、离子注入、光刻、干法刻蚀、金属化、装配和管壳、成品率和可靠性・ |
| 名称 | 超大规模集成电路工艺学 |
| 索引号 | 033895 |
| 分类号 | (| 08 环境公报) |
| 作者 | 史西蒙 S.M.、史常忻、 |
| 出版社 | 上海 : 上海交通大学出版社, 1987.10 |
| ISBN | 7-313-00046-4 |
| 页数 | 456页 ; 26cm$ |
| 价格 | CNY4.80 |
| 标签 | |
| 简介 | |
| 注解 | 包括晶体生长、电子制备, 外延、介质和多晶硅淀积、氧化、扩散、离子注入、光刻、干法刻蚀、金属化、装配和管壳、成品率和可靠性・ |
粤公网安备 44030602003680号