名称 硅技术的发展和未来
索引号 TQ127.2/1
分类号 TQ127.2
TQ127.2(硅及其无机化合物)
TQ127(第Ⅳ族非金属元素及其无机化合物)
TQ12(非金属元素及其无机化合物化学工业)
TQ(化学工业)
T(工业技术)
作者 西费尔、Siffert、克里梅尔、屠海令、
出版社 北京:冶金工业出版社,2009
ISBN 978-7-5024-4536-2
页数 xv, 480页
价格 CNY50.00
标签 硅、研究、
简介
注解 本书涵盖了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体等多方面的内容,系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状,并指出了今后的发展方向。
书籍简介

《硅技术的发展和未来》涵盖了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、品格缺陷、杂质影响等多方面的内容,并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等诸多新概念;系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状,并指出了今后的发展方向。其内容广泛,数据详实,可作为高等院校、科研院所和相关单位从事半导体材料学习、科研和开发人员的参考用书。