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| 名称 | 硅技术的发展和未来 |
| 索引号 | TQ127.2/1 |
| 分类号 | TQ127.2 TQ127.2(硅及其无机化合物) TQ127(第Ⅳ族非金属元素及其无机化合物) TQ12(非金属元素及其无机化合物化学工业) TQ(化学工业) T(工业技术) |
| 作者 | 西费尔、Siffert、克里梅尔、屠海令、 |
| 出版社 | 北京:冶金工业出版社,2009 |
| ISBN | 978-7-5024-4536-2 |
| 页数 | xv, 480页 |
| 价格 | CNY50.00 |
| 标签 | 硅、研究、 |
| 简介 | |
| 注解 | 本书涵盖了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体等多方面的内容,系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状,并指出了今后的发展方向。 |
书籍简介
《硅技术的发展和未来》涵盖了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、品格缺陷、杂质影响等多方面的内容,并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等诸多新概念;系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状,并指出了今后的发展方向。其内容广泛,数据详实,可作为高等院校、科研院所和相关单位从事半导体材料学习、科研和开发人员的参考用书。



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