![]() |
|
| 名称 | 表面分析 (XPS和AES) 引论 / 原著 (英) John F. Watts, John Wolstenholme |
| 索引号 | O656.9/20081 |
| 分类号 | O656.9 O656.9(其他分析) O656(有机分析) O65(分析化学) O6(化学) O(数理科学和化学) |
| 作者 | 沃茨、沃斯滕霍姆、吴正龙、 |
| 出版社 | 上海 : 华东理工大学出版社, 2008 |
| ISBN | 978-7-5628-2226-4 |
| 页数 | 144页 : 图 ; 23cm |
| 价格 | CNY28.00 |
| 标签 | 2008、 |
| 简介 | |
| 注解 | 责任者Watts规范汉译姓: 沃茨; 责任者Wolstenholme汉译姓取自CIP:沃斯滕霍姆 有书目和索引 本书讲述了现代电子能谱中的单色化XPS、小面积XPS(SAXPS)、成像XPS、 XPS深度剖析、场发射AESĐ□SAM等功能的分析技术,以及在冶金、腐蚀、陶瓷、催化剂、微电子半导体材料、黏合剂、涂料聚合物材料等领域中的应用Ь介绍了现代电子能谱仪中的微聚焦单色器、场发射体、离子枪、电子枪、能量分析器Đ□传输透镜、荷电补偿器、多通道探测器、平行成像系统、平行数据采集、数据处理系统等等。书中将XPS和AES技术与其他表面分析技术作了比较。书后附有参考文献、中英文电子能谱分析技术名词术语、网络资源等一些有用的信息。 本书既可供学习电子能谱分析技术的高年级本科生和研究生用作教材,也可供从事电子能谱专业人员以及使用电子能谱分析技术的科研技术人员阅读 |
书籍简介
《表面分析(XPS和AES)引论》讲述了现代电子能谱中的单色化XPS、小面积。XPS(SAXPS)、成像XPS、XPS深度剖析、场发射AES/SAM等功能的分析技术,以及在冶金、腐蚀、陶瓷、催化剂、微电子半导体材料、黏合剂、涂料聚合物材料等领域中的应用;介绍了现代电子能谱仪中的微聚焦单色器、场发射体、离子枪、电子枪、能量分析器/传输透镜、荷电补偿器、多通道探测器、平行成像系统、平行数据采集、数据处理系统等等。书中将XPS和.AES技术与其他表面分析技术作了比较。书后附有参考文献、中英文电子能谱分析技术名词术语、网络资源等一些有用的信息。



粤公网安备 44030602003680号